清洗
1
刻蚀
2
Optiwet
产品信息：
- 单片晶圆清洗，显影，去胶，刻蚀及光罩清洗
- 晶圆尺寸Ø 8“ (Ø 200 mm) Ø 12“ (Ø 300 mm)
- 可根据客户需求定制单机或连续工艺
- 多达200程序预设定
- 适用于小批量生产的工艺试验和生产线
- 占地面积小，易于操作
Maximus806
产品信息：
- 全自动单片晶圆清洗，显影，去胶，刻蚀及光罩清洗
- Ø 6“~ Ø 8“ ((Ø 150 ~ Ø 200 mm)
- 6个工艺单元
- 多达200程序预设定
- 可根据客户需求定制多种功能自由组合
- 界面友好，维护方便
Optiwet
产品信息：
- 单片晶圆清洗，显影，去胶，刻蚀及光罩清洗
- 晶圆尺寸Ø 8“ (Ø 200 mm) Ø 12“ (Ø 300 mm)
- 可根据客户需求定制单机或连续工艺
- 多达200程序预设定
- 适用于小批量生产的工艺试验和生产线
- 占地面积小，易于操作
Maximus806
产品信息：
- 全自动单片晶圆清洗，显影，去胶，刻蚀及光罩清洗
- Ø 6“~ Ø 8“ ((Ø 150 ~ Ø 200 mm)
- 6个工艺单元
- 多达200程序预设定
- 可根据客户需求定制多种功能自由组合
- 界面友好，维护方便
涂胶
1
显影
2
Opticoat
产品信息：
- 专利技术的旋转涂胶
- 不同形状的基板甚至方形均可涂布均匀
- 晶圆尺寸:Ø 8“ (Ø 200 mm) Ø 600 mm Ø 12“ (Ø 300 mm) Ø 750 mm
- 衬底尺寸: 6" x 6“ (150 mm x 150 mm) 8" x 8“ (200 mm x 200 mm) 20“ x 20“ (500 mm x 500 mm)
- 多达200程序预设定
Maximus804
产品信息：
- 全自动单片晶圆旋涂/喷涂涂胶，固化，显影，去胶
- Ø 6“~ Ø 8“ (Ø 150 ~Ø 200 mm)
- 4个工艺单元
- 多达200程序预设定
- 可根据客户需求定制多种功能自由组合
- 界面友好，维护方便
Maximus1203
产品信息：
- 全自动单片晶圆旋涂/喷涂涂胶，固化，显影，去胶
- Ø 8“~ Ø 12“ ((Ø 200 ~Ø 300 mm)
- 适用超薄硅片（ ≥ 50 µm）
- 3个工艺单元
- 多达200程序预设定
- 可根据客户需求定制多种功能自由组合
Opticoat
产品信息：
- 专利技术的旋转涂胶
- 不同形状的基板甚至方形均可涂布均匀
- 晶圆尺寸:Ø 8“ (Ø 200 mm) Ø 600 mm Ø 12“ (Ø 300 mm) Ø 750 mm
- 衬底尺寸: 6" x 6“ (150 mm x 150 mm) 8" x 8“ (200 mm x 200 mm) 20“ x 20“ (500 mm x 500 mm)
- 多达200程序预设定
Maximus804
产品信息：
- 全自动单片晶圆旋涂/喷涂涂胶，固化，显影，去胶
- Ø 6“~ Ø 8“ (Ø 150 ~Ø 200 mm)
- 4个工艺单元
- 多达200程序预设定
- 可根据客户需求定制多种功能自由组合
- 界面友好，维护方便
Maximus1203
产品信息：
- 全自动单片晶圆旋涂/喷涂涂胶，固化，显影，去胶
- Ø 8“~ Ø 12“ ((Ø 200 ~Ø 300 mm)
- 适用超薄硅片（ ≥ 50 µm）
- 3个工艺单元
- 多达200程序预设定
- 可根据客户需求定制多种功能自由组合