清洗

1

刻蚀

2

Optiwet

产品信息:

  • 单片晶圆清洗,显影,去胶,刻蚀及光罩清洗
  • 晶圆尺寸Ø 8“ (Ø 200 mm) Ø 12“ (Ø 300 mm)
  • 可根据客户需求定制单机或连续工艺
  • 多达200程序预设定
  • 适用于小批量生产的工艺试验和生产线
  • 占地面积小,易于操作

Maximus806

产品信息:

  • 全自动单片晶圆清洗,显影,去胶,刻蚀及光罩清洗
  • Ø 8“~ Ø 12“ (Ø 300 mm)
  • 6个工艺单元
  • 多达200程序预设定
  • 可根据客户需求定制多种功能自由组合
  • 界面友好,维护方便

Optiwet

产品信息:

  • 单片晶圆清洗,显影,去胶,刻蚀及光罩清洗
  • 晶圆尺寸Ø 8“ (Ø 200 mm) Ø 12“ (Ø 300 mm)
  • 可根据客户需求定制单机或连续工艺
  • 多达200程序预设定
  • 适用于小批量生产的工艺试验和生产线
  • 占地面积小,易于操作

Maximus806

产品信息:

  • 全自动单片晶圆清洗,显影,去胶,刻蚀及光罩清洗
  • Ø 8“~ Ø 12“ (Ø 300 mm)
  • 6个工艺单元
  • 多达200程序预设定
  • 可根据客户需求定制多种功能自由组合
  • 界面友好,维护方便

涂胶

1

显影

2

Opticoat

产品信息:

  • 专利技术的旋转涂胶
  • 不同形状的基板甚至方形均可涂布均匀
  • 晶圆尺寸:Ø 8“ (Ø 200 mm) Ø 600 mm Ø 12“ (Ø 300 mm) Ø 750 mm
  • 衬底尺寸: 6" x 6“ (150 mm x 150 mm) 8" x 8“ (200 mm x 200 mm) 20“ x 20“ (500 mm x 500 mm)
  • 多达200程序预设定

Maximus804

产品信息:

  • 全自动单片晶圆旋涂/喷涂涂胶,固化,显影,去胶
  • Ø 8“~ Ø 12“ (Ø 300 mm)
  • 4个工艺单元
  • 多达200程序预设定
  • 可根据客户需求定制多种功能自由组合
  • 界面友好,维护方便

Maximus1203

产品信息:

  • 全自动单片晶圆旋涂/喷涂涂胶,固化,显影,去胶
  • Ø 8“~ Ø 12“ (Ø 300 mm)
  • 适用超薄硅片( ≥ 50 µm)
  • 4个工艺单元
  • 多达200程序预设定
  • 可根据客户需求定制多种功能自由组合

Opticoat

产品信息:

  • 专利技术的旋转涂胶
  • 不同形状的基板甚至方形均可涂布均匀
  • 晶圆尺寸:Ø 8“ (Ø 200 mm) Ø 600 mm Ø 12“ (Ø 300 mm) Ø 750 mm
  • 衬底尺寸: 6" x 6“ (150 mm x 150 mm) 8" x 8“ (200 mm x 200 mm) 20“ x 20“ (500 mm x 500 mm)
  • 多达200程序预设定

Maximus804

产品信息:

  • 全自动单片晶圆旋涂/喷涂涂胶,固化,显影,去胶
  • Ø 8“~ Ø 12“ (Ø 300 mm)
  • 4个工艺单元
  • 多达200程序预设定
  • 可根据客户需求定制多种功能自由组合
  • 界面友好,维护方便

Maximus1203

产品信息:

  • 全自动单片晶圆旋涂/喷涂涂胶,固化,显影,去胶
  • Ø 8“~ Ø 12“ (Ø 300 mm)
  • 适用超薄硅片( ≥ 50 µm)
  • 4个工艺单元
  • 多达200程序预设定
  • 可根据客户需求定制多种功能自由组合